研磨液大顆粒液體顆粒計(jì)數(shù)器

研磨液大顆粒液體顆粒計(jì)數(shù)器產(chǎn)品介紹：商用集成電路的制造關(guān)鍵取決于通過(guò)化學(xué)機(jī)械平坦 化（CMP）將硅晶片表面拋光至接近原子平坦度的磨料漿 料顆粒的物理和化學(xué)性質(zhì)。磨料漿料(Slurry)中含有相對(duì) 較少＞1.0μm 的顆粒（如二氧化硅、氧化鋁），這些顆 粒可能會(huì)在晶圓表面平坦化處理的時(shí)候造成微劃傷。因此 ，磨料漿料(Slurry)顆粒的大顆粒計(jì)數(shù) (LPC) 是 CMP 工 藝中的關(guān)鍵因素。

 研磨液大顆粒液體顆粒計(jì)數(shù)器檢測(cè)原理待：測(cè)液體流過(guò)流通池，流通池兩側(cè)裝有光學(xué)玻璃，激光 器的光束通過(guò)透鏡組準(zhǔn)直，光束穿過(guò)流通池，照射在光陷阱 上。若待測(cè)液體中沒(méi)有顆粒，則光電探測(cè)器接收不到光信號(hào) ，若液體中有顆粒，顆粒通過(guò)流通池，與激光光束發(fā)生遮擋 或者散射現(xiàn)象。某一個(gè)(或幾個(gè))角度下的遮擋和散射信號(hào)通 過(guò)透鏡收集匯聚到光電探測(cè)器上，產(chǎn)生正的電信號(hào)脈沖，脈 沖信號(hào)的幅度和光強(qiáng)成正比。根據(jù)信號(hào)的幅度和個(gè)數(shù)可以對(duì) 液體中的微小顆粒進(jìn)行計(jì)數(shù)檢測(cè)。 光阻法主要檢測(cè) 2μm 以上的較大顆粒，光散射法主要 檢測(cè) 2μm 以下的顆粒。兩種模的巧妙融合檢測(cè)讓顆粒的探 測(cè)范圍更加寬廣且精度更高，讓顆粒無(wú)處遁形。 PLD-FX-801 液體顆粒計(jì)數(shù)器基于光散射法和光阻法雙模式的檢測(cè)原理，采用普洛帝核心技術(shù)第八代雙激光 窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制和在離線自動(dòng)稀釋系統(tǒng)，可以用于評(píng)估研磨液中的不良顆粒以及這些顆 粒的濃度。PLD-FX-801 液體顆粒計(jì)數(shù)器可以有效幫助我們確認(rèn)系統(tǒng)中的顆粒污染源，評(píng)估過(guò)濾的有效性以及減 少選些不良顆粒帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)。

 研磨液大顆粒液體顆粒計(jì)數(shù)器典型應(yīng)用：應(yīng)用于 CMP POU 供應(yīng)前段-供給設(shè)備的 Final out 處檢測(cè)出 Slurry 內(nèi)的引起 scratch & defect 的 Large Particle，從而預(yù)防事故的發(fā)生； 應(yīng)用于檢測(cè)區(qū)分 Slurry good/bad test , good/bad slurry,在供給端分析而預(yù)防事故的發(fā)生； 應(yīng)用于電子半導(dǎo)體行業(yè)純水中顆粒監(jiān)測(cè)分析； 應(yīng)用于電子半導(dǎo)體行業(yè)電子化學(xué)品中顆粒監(jiān)測(cè)分析； 應(yīng)用于過(guò)濾行業(yè)的濾除效率以及膜完整性監(jiān)測(cè)； 應(yīng)用于凈水廠凈水、鋼廠回收水、自來(lái)水用水等。

性能特點(diǎn)雙模式：的檢測(cè)原理，讓顆粒無(wú)處遁形； 0.5-100μm 的標(biāo)準(zhǔn)顆粒尺寸，超寬廣的顆粒監(jiān)測(cè)范圍； 精確的流量控制，讓監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)更加恒定和穩(wěn)定； 在離線自動(dòng)稀釋系統(tǒng)，適合超高濃度粒子； 高流速保證了快速的清洗時(shí)間和系統(tǒng)潔凈度； 儀器一體化設(shè)計(jì)故障率，保證了低維護(hù)成本； 乳膠球校準(zhǔn)，可追溯至 NIST 標(biāo)準(zhǔn)； 實(shí)時(shí)觀察研磨漿料中顆粒的粒徑大小、數(shù)量和趨勢(shì)分析； 靈活設(shè)置限值報(bào)警，動(dòng)態(tài)變化響應(yīng)快； 可選配靈活通訊方式，實(shí)現(xiàn)工廠現(xiàn)代化管理；

技術(shù)參數(shù)

傳感器：第八代雙激光窄光檢測(cè)器（更精確，更穩(wěn)定，更迅速）

∝測(cè)試原理： 光阻和光散射雙模式

∝測(cè)試樣品： 水和有機(jī)溶劑

∝檢測(cè)范圍： 0.5-100μm

∝通道數(shù)量：1000 通道可任意設(shè)定 16 個(gè)  

∝檢測(cè)時(shí)間： 5s～自定義

∝粒徑精度： ≥90%

∝計(jì)數(shù)精度： ±3%

∝取樣精度： ±1%

∝取樣流速： 5mL/min～150mL/min

∝測(cè)定方式： 在線/離線、稀釋/直接

∝報(bào)警方式： 聲光報(bào)警器、漏液報(bào)警、顆粒限制報(bào)警

∝控制系統(tǒng)： Windows 操作系統(tǒng)

∝通訊方式： 標(biāo)配 TCPIP；選配：RS232/RS485/4-20mA

訂購(gòu)配置

標(biāo)準(zhǔn)配置：

檢測(cè)主機(jī)一套；

安裝調(diào)試耗材包一套；

出廠紙質(zhì)文件一套。

入口壓力調(diào)節(jié)模塊。

應(yīng)用案例

在線或離線測(cè)定時(shí)，可 Match 供給設(shè)備 filter 交換時(shí)或 charge 等供給設(shè)備 Event 變化帶來(lái) 的 LPC Data,可有效監(jiān)測(cè) Slurry 的 Grade。